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熱門關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體領(lǐng)域儀器設(shè)備：等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。

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CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機查看詳情 >
PH43-260實驗室電熱板查看詳情 >
CPC15/35/80/120/150CIF生產(chǎn)型等離子清洗機查看詳情 >
DS43-260石墨電熱消解儀查看詳情 >
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PH64-360R石墨電熱板查看詳情 >
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Technical articles

技術(shù)文章

20257-11

紫外臭氧清洗機可為各行業(yè)的表面處理提供解決方案
紫外臭氧清洗機憑借其在清潔、環(huán)保節(jié)能、安全可靠等多方面的優(yōu)勢，在現(xiàn)代工業(yè)及科研等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展與完善，其應(yīng)用范圍還將持續(xù)拓展，為各行業(yè)的表面處理提供解決方案，助力推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)向更高質(zhì)量、更可持續(xù)方向發(fā)展。紫外臭氧清洗...
20256-25

烤膠機的應(yīng)用與操作規(guī)范
烤膠機是一種是一種設(shè)計為準確控溫、準確計時、高熱均勻性的高性能實驗室設(shè)備，可實現(xiàn)定時控溫烤膠操作，主要用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化。烤膠機的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：用于前烘、堅膜...
20256-24

等離子去膠機的原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用
等離子去膠機是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過射頻(RF)電源...
20256-5

RIE反應(yīng)離子刻蝕機的應(yīng)用貫穿了整個微納制造領(lǐng)域
在芯片制造、傳感器開發(fā)或微機電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準確到微米級厚度，它通過物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...
20255-23

關(guān)于等離子表面處理儀，三分鐘您就懂
等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對材料表面進行準確的處理，從而改善材料的表面性能，滿足不同行業(yè)對材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...
20254-26

RIE反應(yīng)離子刻蝕機的日常維護
RIE反應(yīng)離子刻蝕機是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學(xué)反應(yīng)，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

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華儀行（北京）科技有限公司

企業(yè)歷程:◆2006年，在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司（CIFInternationalGroupCo.,Ltd）。成立之初是一家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。◆2008年，自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來，先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設(shè)備，從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。◆2010年，掌握了等離子核心技術(shù)，自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品。◆2014年，在中國注冊成立華儀行（北京）科技有限公司，正式進入中國市場，部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至...

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華儀行（北京）科技有限公司

地址：北京市豐臺區(qū)科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室

郵箱：cif_lab@163.com

傳真：86-010-63752028

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